1、3KW 高频X射线发生器，60kV/80mA
2、稳定性：±0.0001%以内
3、铜靶陶瓷光管
4、外部泄漏X線量在0.2μsv/h
5、2θ转动范围：-110 ～+168°, 具有低角度衍射附件，最低可测角度0.3°
6、可读最小步长：0.0001°，角度重现性：0.0001°
7、最高定位速度：≥1500/min
8、配备CBO光路切换系统、小角测角仪单元及室温-1000℃变温单元；

主要的应用有：1. 粉末样品的物相定性与定量分析2. 计算结晶化度、晶粒大小3. 确定晶系、晶粒大小与畸变4. Rietveld结构分析5. 薄膜样品分析，包括薄膜物相、多层膜厚度、表面粗糙度，电荷密度6. In-Plane装置可以同时测量样品垂直方向的结构及样品深度方向的结构7. 小角散射与纳米材料粒径分布8. 微区样品的分析